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苏州华科晋半导体设备技术有限公司
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供应化学操作台

  • 发布时间:2011年07月05日
  • 有 效 期:2012年01月04日
详细说明

    化学操作台

本类设备广泛应用于集成电路芯片,采用RCA清洗工艺,小批量、手动、(石英)烧杯下的工作方式。本体采用半封闭式设计,透明PVC活动观察窗,使操作者能够清晰的看到操作的整个过程,并有效的隔离操作区有害气体对人体的伤害。整机性能可靠,操作方便。根据用户要求配置有氮气、DI水枪、恒温水浴槽、热台、超声清洗槽、循环过滤装置、DI水在线加热装置、 DI水电导率测试等

技术特点

※ 可根据用户工艺要求配置。  

※ 清洗槽*高加热温度可达200℃。 

※ 快速排放冲洗槽排放,冲洗次数可设置。

※ 槽体结构可选单片盒,或双片盒结构。 

※ 槽内传输有手动、自动方式可选。 

※ 可选配超声清洗,或兆声清洗功能。 

※ 可选配液体循环系统。 

※ 具有故障提示,报警等功能。

 
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